Sensor紫外线灯UV-LED-01

于2005年开始，使用尼康Nikon i-line步进式光刻机，型号：NSR-SF140,分辨率≤280nm。这是一种具有高吞吐量和极低拥有成本的扫描场i线步进器。

客户可以将NSR-SF140用于大规模生产下一代存储器和微处理器的非关键层。NSR-SF140可提高生产率并提高镜头性能。光源和透镜热管理得到了改进，在典型的生产应用中（即剂量=200mJ/cm2，300mm晶片上的76次曝光）。

光刻设备中光源为紫外线I线，波长为365nm，功率为7.5KW,对应型号为NLi-7500AL2,是日本ORC生产。

光源制作工厂给出寿命时间1500Hr，照度保证时间1500Hr的承诺。

使用步进式光刻机型号：NSR-SF140,NSR-SF150,NSR-SF155； 高效节能，超高压汞灯照亮你的工业世界。Sensor紫外线灯UV-LED-01

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的纳米级细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有高压汞灯，准分子激光器等。油墨固化用灯紫外线灯ONL-12000Bi线步进式光刻机NSR-2005i8用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率:2KW,型号：NLi-2000A-1。

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软

オーク製作所

紫外線光量計(Made in japan)

用途:OLED,LED,PCB,IC，LCD工厂，封装工艺中密封框胶水的固化。

特长：紫外线光固化，低能耗，无污染，高效率。

配合光量计，测量365nm峰值波长紫外线灯照度大小。

型番:UV-351

規格:測定波長:310～385nm

測定照度範囲:0.1～100ｍW/cm²

測定光量範囲:1～19999mJ/cm²

繰り返し精度:±1.5%以内

標準構成:

①光量计本体UV-351

②减光filter

③纽扣锂电池

④螺丝刀₋

⑤螺丝刀＋

⑥操作说明书

⑦除尘布

⑧收纳箱 i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D！

ORC制作所株式会社的品质管理实施方法１．品质管理①ISO-9001的认证・QC工程表、依作业标准书的标准化・认定工程、依作业审定的教育训练②外注部件的品质：・实施定期的品质会议・确保外注部件的安定筹措③产品品质：・采用弊社独自的检查方式・高亮度照明设备・Ｘ线检查装置・弊社独自的点灯试验方法・产品的抽样检查

为了防范于未然，实施全数点灯试验。

通过本公司的精密的灯制造工程，灯的初期照度的偏差非常小，很受客户的好评。 i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2。清洗UV灯紫外线灯160Z22AL

i线步进式光刻机NSR-2005i9用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001A-1。Sensor紫外线灯UV-LED-01

强紫外线高压汞灯由石英管材制造而成，使紫外线能高程度及大量的穿透，其弧长度/发光长度可由5厘米至300厘米不等，常见功率为每厘米30W至200W，超大功率UV灯一般在每厘米200W或以上操作，该灯光谱有效范围在350-450nm之间，主波峰为365nm，功率由100w-25kw. UV固化在英文中称UV Curing 或 UV Coating，UV固化是光化学反应，即液态的UV照射可固化材料经印刷或涂布到承印物或工件表面，经UV光线照射实现硬化的过程，UV固化与传统的干燥过程相似，但原理不同，传统的干燥一般借助于涂敷材料中溶剂的挥发而形成硬化，而UV固化交联则无溶剂挥发。Sensor紫外线灯UV-LED-01